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北京微纳芯科技有限公司成立于2024年8月,是专业的微纳光电子芯片制造服务商。公司由多名超过8年微纳加工行业经验的工艺人员创立。主要为科技企业、科研机构和高校,提供光电领域核心的生产制造和工艺研发,主要包括光电子器件工艺、MEMS器件工艺等,可支持碎片、4/6/8/12英寸片源加工工艺,覆盖Si、Si3N4、TiO2、SiO2、LNOI、GaAs、InP等主要材料;拥有完备的生产体系,提供全套加工工艺,从光刻、刻蚀、镀膜到产品封测;同时具备开展高速光通信、AR显示、光学传感等颠覆性技术应用中关键器件研发和技术服务能力。

12000
产业化基地
5000
超净实验室
110
半导体加工及测试设备
90+
专业工程师
2000
晶圆年生产量
微纳代工
产品研发
设备销售
光学元件
光刻
光刻
刻蚀
刻蚀
镀膜
镀膜
清洗
清洗
表征
表征
划裂
划裂
研磨抛光
研磨抛光
测试分选
测试分选
微波测试
微波测试
微透镜阵列
微透镜阵列
纳米压印母版
纳米压印母版
激光器芯片
激光器芯片
调制器芯片
调制器芯片
CMOS图像传感器
CMOS图像传感器
高精度掩膜板
高精度掩膜板
生物芯片
生物芯片
MEMS芯片
MEMS芯片
AOI设备
AOI设备
IGBT测试机
IGBT测试机
镀膜设备
镀膜设备
光学元器件
光学元器件
光学镀膜器件
光学镀膜器件

媒体中心

Media
媒体中心
2025-07-27
光刻的概述光刻(Photo Etching)是指通过匀胶、曝光、显影等一系列工艺步骤,将晶圆表面的特定部分除去而留下…
2025-07-27
背景二氧化硅薄膜具有硬度大、防腐蚀性、耐潮湿性和介电性能强等优点,因此二氧化硅薄膜在半导体行业中可以用作器件的保护层…
2025-07-27
近年来,电子束光刻的众多优势凸显出来,通过电子束直写的形式将图形直接转移到晶圆上,不需掩膜版,直写线宽最小可达10 …