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研磨抛光

在芯片的工作过程中,由于热量的产生,使得芯片背面产生内应力。芯片热量升高,基体层之间的热差异性加剧,加大了芯片内应力。较大的内应力使芯片破裂。因此,通过背面减薄工艺,降低芯片热阻,提高芯片的散热性能,降低芯片破损的风险,提高集成电路的可靠性。另外做调制器芯片需要通过端面抛光来进行光纤的端面耦合。

磨抛设备:研磨机、抛光机,端面抛光机

磨抛尺寸:3英寸晶圆、2cm*2cm端面抛光

Engis研磨机、Engis抛光机
Engis研磨机、Engis抛光机
Engis grinding machine、Engis polishing machine

设备型号

TJW-380JF、TJW-3801-CMP

最大加工尺寸

3英寸

减薄厚度

85-150um

加工材料

Inp、GaAs、Si

加工精度

<10um


铼铂机电研磨机、铼铂机电抛光机
铼铂机电研磨机、铼铂机电抛光机
Leibo Electromechanical Grinding Machine, Leibo Electromechanical Polishing Machine

设备型号

LM-400

最大加工尺寸

3英寸

减薄厚度

85-150um

加工材料

Inp、GaAs、Si、LNOI、SOI

加工精度

<10um

加工种类

平面磨抛、端面磨抛


罗技派克研磨机、罗技派克抛光机
罗技派克研磨机、罗技派克抛光机
Logitech Parker Grinding Machine, Logitech Parker Polishing Machine

设备型号

PM6

最大加工尺寸

14-19.98mm

加工材料

LNOI、SOI

加工精度

<10um

加工种类

端面磨抛