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纳米压印母版

Nano imprint master

产品参数

公司主要利用母版+压印来制作衍射光波导,掌握整套母版制造和纳米压印生产的工艺技术,精度可达到纳米级。

1、 EBL+IBE刻蚀+压印来制作斜齿光栅

2、 EBL(灰度曝光)+刻蚀+压印来制作闪耀光栅

3、EBL+刻蚀+压印来制作直齿光栅

材料:硅、石英

加工能力:支持4/6/8英寸母版加工










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